[发明专利]非易失性存储元件及其制造方法有效
申请号: | 201180007789.8 | 申请日: | 2011-12-12 |
公开(公告)号: | CN102742011A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 米田慎一;三河巧 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;G11C13/00;H01L45/00;H01L49/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的非易失性存储元件具有:电阻变化元件(104a),其具有第1电极(103)、第2电极(105)和电阻变化层(104),该电阻变化层(104)介于第1电极(103)和第2电极(105)之间,并且电阻值根据提供到第1电极(103)和第2电极(105)之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层(108),其具有规定的电阻值,被层叠于电阻变化层(104),电阻变化层(104)具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层(106)、和具有比第1过渡金属氧化物层(106)高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层(107),规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。 | ||
搜索关键词: | 非易失性 存储 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种非易失性存储元件,具有:电阻变化元件,具有第1电极、第2电极和电阻变化层,所述电阻变化层介于所述第1电极和所述第2电极之间,并且其电阻值根据提供到所述第1电极和所述第2电极之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层,具有规定的电阻值,被层叠于所述电阻变化元件,所述电阻变化层具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层、和具有比所述第1过渡金属氧化物层高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层,所述规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的