[发明专利]非易失性存储元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180007789.8 申请日: 2011-12-12
公开(公告)号: CN102742011A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 米田慎一;三河巧 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;G11C13/00;H01L45/00;H01L49/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的非易失性存储元件具有:电阻变化元件(104a),其具有第1电极(103)、第2电极(105)和电阻变化层(104),该电阻变化层(104)介于第1电极(103)和第2电极(105)之间,并且电阻值根据提供到第1电极(103)和第2电极(105)之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层(108),其具有规定的电阻值,被层叠于电阻变化层(104),电阻变化层(104)具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层(106)、和具有比第1过渡金属氧化物层(106)高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层(107),规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。
搜索关键词: 非易失性 存储 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种非易失性存储元件,具有:电阻变化元件,具有第1电极、第2电极和电阻变化层,所述电阻变化层介于所述第1电极和所述第2电极之间,并且其电阻值根据提供到所述第1电极和所述第2电极之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层,具有规定的电阻值,被层叠于所述电阻变化元件,所述电阻变化层具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层、和具有比所述第1过渡金属氧化物层高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层,所述规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。
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