[实用新型]氧化锌薄膜沉积设备有效
申请号: | 201120341370.3 | 申请日: | 2011-09-13 |
公开(公告)号: | CN202246849U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 汪宇澄;李一成;许国青 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种氧化锌薄膜沉积设备,其包含水蒸发器,DEZ蒸发器和反应腔;所述水蒸发器通过水蒸气输气管道与所述反应腔连接;所述DEZ蒸发器通过DEZ输气管道与所述反应腔连接;所述ZnO薄膜沉积设备还包含分别设置在水蒸气输气管道和DEZ输气管道外部的温控装置,所述温控装置用于将所述水蒸气输气管道内的水蒸气温度控制在大于等于30ºC且小于等于50ºC之间,以及将所述DEZ输气管道内的DEZ气体温度控制在大于等于30ºC且小于等于45ºC之间。本实用新型所提供的ZnO薄膜沉积设备,在水蒸气和DEZ气体的传输过程中,可有效降低气体损耗,提高ZnO薄膜的沉积速率。 | ||
搜索关键词: | 氧化锌 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种氧化锌薄膜沉积设备,其包含水蒸发器(1),DEZ蒸发器(2)和反应腔(4);所述水蒸发器(1)通过水蒸气输气管道(31)与所述反应腔(4)连接;所述DEZ蒸发器(2)通过DEZ输气管道(32)与所述反应腔(4)连接;其特征在于,所述ZnO薄膜沉积设备还包含分别设置在水蒸气输气管道(31)和DEZ输气管道(32)外部的温控装置(6),所述温控装置(6)用于将所述水蒸气输气管道(31)内的水蒸气温度控制在大于等于30ºC且小于等于50ºC之间,以及将所述DEZ输气管道(32)内的DEZ气体温度控制在大于等于30ºC且小于等于45ºC之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的