[发明专利]聚合物,光致抗蚀剂组合物和光刻图案的形成方法有效
| 申请号： | 201110463056.7 | 申请日： | 2011-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102653576A | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | Y·C·裴;D·R·威尔森;孙纪斌 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/32 | 分类号： | C08F220/32;C08F222/14;C08F220/28;C08F220/18;G03F7/038;G03F7/09;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及聚合物，光致抗蚀剂组合物和光刻图案的形成方法。提供了用于形成光刻图案的聚合物和光致抗蚀剂组合物。还提供了以光致抗蚀剂组合物涂敷的基底和形成光刻图案的方法。所述组合物，方法和涂敷基底在半导体装置的制备中具有特殊的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 光致抗蚀剂 组合 光刻 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，其包含：下列通式(I)的单体形成的第一单元：![]()
其中：P表示可聚合基团；R1表示单键，或C1至C10的线型或支链有机基团；R2和R3各自独立地表示氢原子或C1至C10的有机基团，任选结合形成环；R4表示氢原子或C1至C10的有机基团；以及R5和R6各自独立地表示C1至C6的有机基团，任选结合形成环；以及包含内酯片段的第二单元。
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