[发明专利]抛光设备有效

专利信息
申请号: 201110447907.9 申请日: 2005-10-31
公开(公告)号: CN102513920A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 锅谷治;户川哲二;福岛诚;安田穗积 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B24B37/07 分类号: B24B37/07;B24B37/20;B24B37/34;B24B51/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈珊;刘兴鹏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 抛光设备(1)具有抛光垫(22)、用于夹持半导体晶片(W)的顶环(20)、可操作地沿垂直方向移动顶环(20)的垂直运动机构(24)、当顶环(20)的下表面接触抛光垫(22)时可操作地检测顶环(20)的距离测量传感器(46)、可操作地基于距离测量传感器(46)检测到的位置计算顶环(20)抛光半导体晶片(W)的最佳位置的控制器(47)。垂直运动机构(24)包括可操作地将顶环(20)移动到最佳位置的滚珠丝杆机构(30,32,38,42)。
搜索关键词: 抛光 设备
【主权项】:
一种抛光设备,包括:具有抛光表面的抛光垫;设计成朝向所述抛光表面挤压衬底的顶环主体;设计成挤压所述抛光表面的卡环,所述卡环设置在所述顶环主体的周边部分处;设置在所述顶环主体下部处的弹性隔膜,所述弹性隔膜与至少一部分衬底接触;和盖住所述弹性隔膜和所述卡环之间的间隙的密封构件。
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