[发明专利]薄膜沉积装置及其使用方法

摘要

本发明提出一种薄膜沉积装置，用于对一基材进行一薄膜沉积制程。此薄膜沉积装置包括反应腔、预热腔、冷却腔及至少一传送模块。预热腔预热基材。反应腔自预热腔接收预热后之基材并加热至工作温度进行薄膜沉积制程，完成薄膜沉积制程后，对反应腔内的基材进行冷却。冷却腔自反应腔接收基材并进一步冷却基材。传送模块在预热腔、反应腔及冷却腔之间传送基材。本发明还提供一种薄膜沉积装置的使用方法。上述薄膜沉积装置及其使用方法可以节省时间、节省能源并降低成本。

主权项

一种薄膜沉积装置，用于对一基材进行一薄膜沉积制程，该薄膜沉积装置包含：一预热腔，预热该基材；一反应腔，自该预热腔接收预热后的该基材，加热至一工作温度范围进行薄膜沉积制程，完成薄膜沉积制程后，对该反应腔内的该基材进行冷却；一冷却腔，自该反应腔接收该基材，进一步冷却该基材；以及至少一传送模块，在该预热腔、该反应腔及该冷却腔之间传送该基材。