[发明专利]真空镀膜件及其制造方法无效
申请号: | 201110423663.0 | 申请日: | 2011-12-17 |
公开(公告)号: | CN103160778A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 曹达华 | 申请(专利权)人: | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种真空镀膜件,包括基体及形成于基体上的颜色层,该颜色层包括若干第一碳化铬层及若干第一碳化钛层,所述若干第一碳化铬层和若干第一碳化钛层交替排布,该颜色层呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标为29至35,a*坐标为0至2,b*坐标为0至2。所述真空镀膜件呈现出纯正的黑色。本发明还提供一种上述真空镀膜件的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 真空镀膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种真空镀膜件,包括基体及形成于基体上的颜色层,其特征在于:该颜色层包括若干第一碳化铬层及若干第一碳化钛层,所述若干第一碳化铬层和若干第一碳化钛层交替排布,该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为29至35,a*坐标为0至2,b*坐标为0至2。
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