[发明专利]真空镀膜件及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜件及其制造方法，尤其涉及一种呈现黑色的真空镀膜件及其制造方法。

背景技术

真空镀膜技术是一个非常环保的成膜技术。以真空镀膜的方式所形成的膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性、与基体结合牢固以及亮丽的金属外观等优点，因此真空镀膜在装饰性表面处理领域的应用越来越广。但真空镀膜技术也具有一定的局限性，在制造纯黑色膜层过程中容易出现异色、黑中带蓝或黑中带红等现象，如此严重影响了黑色膜层的美观。目前已见报道的黑色膜层L值（即明度值）最佳只能达到35，为了得到更纯的黑色继续降低膜层的L值存在较大难度。因此，开发一种明度值较低的黑色镀膜件实为必要。

发明内容

有鉴于此，提供一种明度值较低的黑色的真空镀膜件。

另外，还提供一种上述真空镀膜件的制造方法。

一种真空镀膜件，包括基体及形成于基体上的颜色层，该颜色层包括若干第一碳化铬层及若干第一碳化钛层，所述若干第一碳化铬层和若干第一碳化钛层交替排布，该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为29至35，a*坐标为0至2，b*坐标为0至2。

一种真空镀膜件的制造方法，包括以下步骤：

提供基体；

在该基体上以磁控溅射的方式形成颜色层，该颜色层包括若干第一碳化铬层及若干第一碳化钛层，所述若干第一碳化铬层和若干第一碳化钛层交替排布；溅射时同时开启铬靶和钛靶，并以乙炔为反应气体，所述颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为29至35，a*坐标为0至2，b*坐标为0至2。

所述真空镀膜件的制造方法，采用铬靶与钛靶为靶材、以乙炔气体为反应气体，在基体上交替沉积第一碳化铬层和第一碳化钛层，使所述真空镀膜件呈现出纯正的黑色。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例真空镀膜件的剖视图；

图2是本发明另一较佳实施例真空镀膜件的剖视图；

图3是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

真空镀膜件10基体11衬底层13过渡层15梯度层17颜色层19第二碳化铬层151第二碳化钛层153第三碳化铬层171第三碳化钛层173第一碳化铬层191第一碳化钛层193镀膜机100镀膜室20真空泵30轨迹21第一靶材22第二靶材23气源通道24