[发明专利]一种分子印迹膜的制备方法无效
| 申请号： | 201110377129.0 | 申请日： | 2011-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102489171A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 罗川南;邱化敏;孙敏 | 申请（专利权）人： | 济南大学 |
| 主分类号： | B01D69/10 | 分类号： | B01D69/10;B01D67/00;G01N21/76 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250022 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种分子印迹膜的制备方法，特别涉及采用在薄膜基体上原位聚合的方法。本发明以丙烯酰胺或丙烯酸等为聚合单体，以乙二醇二甲基丙烯酸酯或亚甲基双丙烯酰胺等为交联剂，存在模板分子的条件下，在薄膜基体上进行原位聚合，去除模板分子后得到目标分子印迹膜。本发明所制备的分子印迹膜具有选择性高、吸附容量大、稳定性好等优点，可以用于化学发光传感器，具有很好的应用潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分子 印迹 制备 方法 | ||
【主权项】：
分子印迹膜的制备方法，其特征在于方法依次包括以下A、B两个步骤：A.薄膜基体的预处理薄膜基体用预处理溶液浸泡一定时间，取出后真空干燥，获得预处理的薄膜基体。B.分子印迹膜的制备将模板分子溶解于丙酮中，向其中加入功能单体，使模板分子与功能单体作用一定时间。再加入交联剂，先超声再通惰性气体除氧气，然后在体系中加入引发剂，将薄膜基体浸泡在上述体系中一定时间，取出后置于两玻璃片之间，排除气泡后，隔绝空气进行聚合反应。去除印迹分子后，获得目标分子印迹膜。
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