[发明专利]一种分子印迹膜的制备方法

权利要求书

1.分子印迹膜的制备方法，其特征在于方法依次包括以下A、B两个步骤：

A.薄膜基体的预处理

薄膜基体用预处理溶液浸泡一定时间，取出后真空干燥，获得预处理的薄膜基体。

B.分子印迹膜的制备

将模板分子溶解于丙酮中，向其中加入功能单体，使模板分子与功能单体作用一定时间。再加入交联剂，先超声再通惰性气体除氧气，然后在体系中加入引发剂，将薄膜基体浸泡在上述体系中一定时间，取出后置于两玻璃片之间，排除气泡后，隔绝空气进行聚合反应。去除印迹分子后，获得目标分子印迹膜。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于薄膜基体的预处理步骤中采用聚酰胺薄膜或聚四氟薄膜，厚度为10-100μm，孔径为0.1-1μm，预处理溶液为N，N，N′，N′-四甲基乙二胺的水溶液，浓度为30-90％(v/v)，浸泡时间为0.2-1.5h，真空干燥温度为20-80℃，干燥时间为0.5-6h。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于分子印迹膜的制备步骤中模板分子为L-色氨酸、磺胺甲恶唑、肾上腺素。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于分子印迹膜的制备步骤中功能单体为丙烯酰胺或丙烯酸，交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯或亚甲基双丙烯酰胺，引发剂为偶氮二异丁腈或过硫酸铵。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于分子印迹膜的制备步骤中模板分子与功能单体、交联剂、自由基引发剂的物质的量之比为1∶2-10∶4-20∶0.01-0.05。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于分子印迹膜的制备步骤中模板分子与功能单体的作用时间为1-12h，超声脱气和通惰性气体时间各为1-20min，惰性气体为氩气或高纯氮气。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于分子印迹膜的制备步骤中薄膜基体在反应混合物中的浸泡时间为0.5-10min，进行聚合反应的温度为40-80℃，聚合时间为3-36h。