[发明专利]完成小线距的导线制作方法无效
| 申请号： | 201110369499.X | 申请日： | 2011-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN102402138A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 薛景峰;许哲豪 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种完成小线距导线制作方法。所述导线制作方法是先于导体层上涂布光阻，经过曝光显影后，进一步通过灰化处理来完全移除光阻对应曝光区域的部份，再进行导体层的蚀刻步骤，以形成所需导线。本发明所提供的方法可在有限曝光精度的曝光显影设备下，于基板上制作出符合微小线距需求的导线图案。 | ||
| 搜索关键词： | 完成 小线距 导线 制作方法 | ||
【主权项】：
一种完成小线距的导线制作方法，其特征在于：所述导线制作方法包含下列步骤：S1：提供一导体层；S2：涂布一光阻层于所述导体层上；S3：对所述光阻层进行曝光显影处理；S4：对所述光阻层进行灰化处理，以去除对应曝光区域的残留光阻而图案化所述光阻层；以及S5：对所述导体层进行蚀刻处理并去除所述图案化光阻层，以形成导线。
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