[发明专利]扩散剂组合物及杂质扩散层的形成方法有效

专利信息
申请号: 201110365158.5 申请日: 2011-11-11
公开(公告)号: CN102468439A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 森田敏郎;神园乔 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L31/18;H01L21/225
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供扩散剂组合物,该扩散剂组合物含有缩合产物(A)和杂质扩散成分(B)。缩合产物(A)是水解烷氧基硅烷而得到的反应产物。杂质扩散成分(B)是磷酸单酯、磷酸二酯或它们的混合物。
搜索关键词: 扩散 组合 杂质 形成 方法
【主权项】:
1.一种扩散剂组合物,是向半导体基板印刷杂质扩散成分时使用的扩散剂组合物,其特征在于,含有以下述通式(1)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(A)、和杂质扩散成分(B),杂质扩散成分(B)是下述通式(2)表示的磷酸酯(C),式(1)中,R1、R2为有机基团,多个R1、R2可以相同也可以不同,m是0、1、或2,式(2)中,R3是烷基,n是1或2。
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