[发明专利]表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110352096.4 申请日: 2011-11-09
公开(公告)号: CN103102158A 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: 高剑琴;黄政仁;陈健;刘桂玲;刘学建 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;C04B35/622
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 项丹
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,该方法包括以下步骤:测量SiC粉体表面的氧含量,并根据3C+SiO2=SiC+2CO↑计算出所需的碳含量;加入烧结助剂B和C混合浆料,配比如下:烧结助剂与SiC粉体的混合物∶磨球∶分散介质=1∶3∶1;烘干浆料、过筛,成型后除去粘结剂;在流动惰性气体保护下,以烧结温度为2050-2200℃进行烧结,保温时间1-4小时,生成致密的SiC陶瓷;对所得的致密的SiC陶瓷进行机械加工;对经机械加工的SiC陶瓷进行超声清洗以去除陶瓷表面上的残留粒子和沾污物。
搜索关键词: 表面 质量 提高 烧结 碳化硅 陶瓷 制备 方法
【主权项】:
一种表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,该方法包括以下步骤:测量SiC粉体表面的氧含量,并根据3C+SiO2=SiC+2CO↑计算出所需的碳含量;加入烧结助剂B和C混合浆料,配比如下:烧结助剂与SiC粉体的混合物∶磨球∶分散介质=1∶3∶1;烘干浆料、过筛,成型后除去粘结剂;在流动惰性气体保护下,以烧结温度为2050‑2200℃进行烧结,保温时间1‑4小时,生成致密的SiC陶瓷;对所得的致密的SiC陶瓷进行机械加工;对经机械加工的SiC陶瓷进行超声清洗以去除陶瓷表面上的残留粒子和沾污物。
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