[发明专利]冗余图形的填充方法有效
| 申请号： | 201110312357.X | 申请日： | 2011-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN103049588A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 陈福成 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种冗余图形的填充方法，包括步骤：1)根据半导体器件中各层次的相互关系，计算出芯片上不可填充冗余图形区域与可填充冗余图形区域；2)以不可填充冗余图形区域的边界作为填充算法的起始边，环状填充冗余图形，每一次环状填充为填充算法的一个计算循环。该方法将不可填充区域的边界作为填充算法的起始边，环状插入冗余图形，如此，保证了在需要冗余图形保护的器件周围，优先插入冗余图形，从而得以更好地保证器件的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 冗余 图形 填充 方法 | ||
【主权项】：
一种冗余图形的填充方法，其特征在于，包括以下步骤：1)根据半导体器件中各层次的相互关系，计算出芯片上不可填充冗余图形区域与可填充冗余图形区域；2)以不可填充冗余图形区域的边界作为填充算法的起始边，环状填充冗余图形，每一次环状填充为填充算法的一个计算循环。
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