[发明专利]反应腔装置及具有其的基片处理设备

摘要

本发明提出一种反应腔装置，包括：腔室本体，腔室本体内限定有反应腔室；托盘，托盘设置在反应腔室之中且可转动；和进气装置，进气装置用于在腔室本体之中形成相互交替的第一气体区域和第二气体区域，其中，在第一气体区域之中通入工艺气体，在第二气体区域之中通入隔离气体，位于所述托盘上的基片随托盘的转动交替通过所述第一气体区域和第二气体区域。本发明还提出一种基片处理设备。根据本发明的反应腔装置，可有效地防止反应气体反应后的副产物对基片成膜的影响。根据本发明的基片处理设备，降低反应气体的副产物对基片成膜的影响，提升基片成膜的工艺指标，还能够提高反应气体利用率，提高该基片处理设备的使用效率。

主权项

一种反应腔装置，其特征在于，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有反应腔室；托盘，所述托盘设置在所述反应腔室之中且可转动；和进气装置，所述进气装置用于在所述腔室本体之中形成相互交替的第一气体区域和第二气体区域，其中，在所述第一气体区域之中通入工艺气体，在所述第二气体区域之中通入隔离气体，其中，位于所述托盘上的基片随托盘的转动交替通过所述第一气体区域和第二气体区域。