[发明专利]一种掺氮碳纳米管的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110286947.X 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN102352490A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 夏洋;饶志鹏;万军;刘键;李超波;陈波;黄成强;石莎莉;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/26;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及碳纳米管的制备技术,具体涉及一种掺氮碳纳米管的制备方法。所述制备方法,包括如下步骤:将硅衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;在所述硅衬底表面生长一层镍金属;向所述原子层沉积设备反应腔中通入碳氢物质,通过等离子体放电,形成碳原子,所述碳原子自发积累在所述镍金属表面形成碳纳米管结构;向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氮物质,通过等离子体电离所述含氮物质,使得含氮物质的氮原子掺入碳纳米管结构内部和表面,形成掺氮碳纳米管。本发明不仅能够通过ALD设备制备出碳纳米管,而且通过等离子体辅助,能够实现氮原子的掺杂,且薄膜结构完整,含氮量较容易控制,方法简单,可广泛采用。
搜索关键词: 一种 掺氮碳 纳米 制备 方法
【主权项】:
一种掺氮碳纳米管的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:将硅衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;在所述硅衬底表面生长一层镍金属;向所述原子层沉积设备反应腔中通入碳氢物质,通过等离子体放电,形成碳原子,所述碳原子自发积累在所述镍金属表面形成碳纳米管结构;向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氮物质,通过等离子体电离所述含氮物质,使得含氮物质的氮原子掺入碳纳米管结构内部和表面,形成掺氮碳纳米管。
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