[发明专利]光刻对准标记以及包含其的掩模板和半导体晶片有效
| 申请号： | 201110285659.2 | 申请日： | 2011-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN103019052A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 杨晓松;严轶博;卢子轩 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F1/42;H01L23/544 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 邹姗姗 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开实施例提供了一种光刻对准标记以及包含其的掩模板和半导体晶片。所述光刻对准标记包括：沿第一方向相互平行设置的多个第一对准栅条；和沿与所述第一方向垂直的第二方向相互平行设置的多个第二对准栅条，其中，所述多个第一对准栅条中的每一个由预定个数的均匀间隔开的第一精细对准栅条构成，并且所述多个第二对准栅条中的每一个由所述预定个数的均匀间隔开的第二精细对准栅条构成。该光刻对准标记放置于掩模板的非电路图案区域中以及半导体晶片的多个层的标记区域中。该光刻对准标记能够应用于具有小尺寸划线槽的芯片中并实现精确的对准，且不会增加额外的掩模板成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 对准 标记 以及 包含 模板 半导体 晶片 | ||
【主权项】：
一种光刻对准标记，包括：沿第一方向相互平行设置的多个第一对准栅条；和沿与所述第一方向垂直的第二方向相互平行设置的多个第二对准栅条，其中，所述多个第一对准栅条中的每一个由预定个数的均匀间隔开的第一精细对准栅条构成，并且所述多个第二对准栅条中的每一个由所述预定个数的均匀间隔开的第二精细对准栅条构成。
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