[发明专利]气体供给装置、处理装置、处理方法无效

专利信息
申请号: 201110276045.8 申请日: 2009-03-23
公开(公告)号: CN102339745A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 津田荣之辅 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/31 分类号: H01L21/31;C23C16/455;H01L21/205;H01L21/3065
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李伟;阎文君
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种气体供给装置(3),具备:主体部(31),其具有用于使气体从缩径端(32a)侧向扩径端(32b)侧流通的近似圆锥形的气体流通空间(32);气体导入口(61a~63a、61b~63b),其设于气体流通空间(32)的缩径端(32a)侧,用于将气体向气体流通空间(32)导入;多个划分构件(41~46),其设于气体流通空间(32)内,将气体流通空间(32)以同心圆状划分。一个划分构件(42~46)的逐渐扩展程度大于在径向内侧相邻的划分构件(41~45)的逐渐扩展程度。利用该设置,与以往的气体喷淋头相比可以增大气体供给装置内部的气体流路中的流导,使该气体流路中的气体的置换性提高。
搜索关键词: 气体 供给 装置 处理 方法
【主权项】:
一种气体供给装置,与处理容器内的基板对置地配置,用于向所述基板供给气体来进行气体处理,其特征在于,具备:主体部,其具有用于使所述气体流通的气体流通空间;气体导入口,其设于所述主体部中的所述气体流通空间的上游端侧,用于将所述气体导入到所述气体流通空间;板状构件,其设于所述主体部的所述气体流通空间的下游端侧,具有用于将向所述气体流通空间供给的所述气体向所述基板供给的以同心圆状开口的多个狭缝。
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