[发明专利]多元喷射电沉积加工多层膜的方法及装置有效
申请号: | 201110269337.9 | 申请日: | 2011-09-13 |
公开(公告)号: | CN102330126A | 公开(公告)日: | 2012-01-25 |
发明(设计)人: | 沈理达;刘志东;王桂峰;田宗军;高雪松;黄因慧 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C25D5/08 | 分类号: | C25D5/08;C25D5/10 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 瞿网兰 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种多元喷射电沉积加工多层膜的方法及装置,其特征是在回转基体周围分别安装着两个或多个喷射加工单元,使上述回转基体保持旋转,实现多种组分的同步喷射电沉积。本发明可以很方便地实现对多层膜的组分、调制波长、微观结构等参数的精密调控,人为设计和制备所需特性的多层膜,制备两种或两种以上子层交替的多层膜,这些多层膜的子层可以是纯金属、合金等,晶体结构也可以多种多样,具有设备简单、节约成本、高效快捷、容易控制、加工过程足够稳定等优点。 | ||
搜索关键词: | 多元 喷射 沉积 加工 多层 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种多元喷射电沉积加工多层膜的方法,其特征是它包括以下步骤: 首先,使被沉积环形基体以设定的速度转动; 其次,在环形基体的周围设置多个喷射加工单元,每个喷射加工单元之间通过隔板分隔; 第三,在环形基体转动的过程中,使各喷射加工单元按设定的次序向环形基体的表面喷射电沉积液,在环形基体表面至少形成两层组份相同或不相同的电沉积,形成所需层数的多层膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京航空航天大学,未经南京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110269337.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:连续式核桃脱青皮清洗机
- 下一篇:等离子垃圾气化装备及其气化工艺