[发明专利]一种多尼培南水合物晶体及其制备方法有效
申请号: | 201110266374.4 | 申请日: | 2011-09-08 |
公开(公告)号: | CN102285988A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 安晓霞;吕锋;胡猛;周吴;王光华 | 申请(专利权)人: | 上海希迈医药科技有限公司;江苏迪赛诺制药有限公司 |
主分类号: | C07D477/20 | 分类号: | C07D477/20;C07D477/02 |
代理公司: | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人: | 何葆芳 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种多尼培南水合物晶体及其制备方法。所述晶体的粉末X射线衍射谱图如图1所示,且晶体中的水分测定值为4.4~5.5%。所述晶体的制备是先将多尼培南粗品溶于40~70℃的水中,然后冷却至0~25℃,加入活性炭,搅拌脱色5~15分钟;过滤,将滤液降温到0~10℃,有固体析出,保温搅拌1~2小时;过滤,用异丙醇/水=4∶1洗涤滤饼;在40~60℃,5~10mmHg下干燥至晶体中的水分测定值为4.4~5.5%。本发明提供的多尼培南水合物晶体具有纯度高、残留溶剂低、稳定性好、用药安全性高等优点。另外,本发明提供的多尼培南水合物晶体的制备方法具有工艺简单、制备成本低廉、适合工业化生产等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 多尼培南 水合物 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种多尼培南水合物晶体,其特征在于:所述晶体的粉末X射线衍射谱图如图1所示,且晶体中的水分测定值为4.4~5.5%。
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