[发明专利]光波导薄膜和光基片以及它们的制造方法有效
| 申请号： | 201110254807.4 | 申请日： | 2008-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN102313928A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 程野将行;长崎国夫;山口美穗;井口伸儿 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/138 | 分类号： | G02B6/138;G02B6/122 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光波导薄膜和光基片以及它们的制造方法。光波导薄膜配备：具有粘接功能的包层和被该包层覆盖的芯层。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 薄膜 光基片 以及 它们 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光波导薄膜制造方法，其特征在于，具有以下工序：形成芯层的工序；以及通过在所述芯层的表面叠积由树脂组成的薄膜，形成具有粘接功能并具有比所述芯层的折射率低的折射率的包层的工序。
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