[发明专利]一种封装基板制造方法及封装基板有效

专利信息
申请号: 201110252577.8 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN102299081A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 谷新;丁鲲鹏;彭勤卫;孔令文 申请(专利权)人: 深南电路有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/498;H05K3/30;H05K3/46;H05K1/02
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 彭愿洁;李文红
地址: 518000 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种封装基板制造方法及封装基板。一种封装基板制造方法,包括:在芯片放置区和引脚表面上形成覆盖层;在覆盖层之外的第一层介质层上形成覆盖第一层导电层的第二层介质层;在第二层介质层上形成第二层导电层,第二层导电层上包括第二层引脚及第二层导电图案;循环执行上述过程;去除覆盖层,以形成多阶台阶槽。应用上述技术方案,本体层表面上形成多层导电层和覆盖层,将覆盖层去除后,本体层表面上的多层导电层形成多阶台阶,每个台阶上具有引脚。相对于控深铣槽技术来说,多层导电层和覆盖层形成方式,以及覆盖层去除方式,降低加工难度,提高台阶的加工精度。同时,本体层上形成多层引脚,进一步提高引脚密度,实现高密度封装。
搜索关键词: 一种 封装 制造 方法
【主权项】:
一种封装基板制造方法,其特征在于,包括:提供本体层,所述本体层表面上形成有第一层介质层,所述第一层介质层上具有第一层导电层和芯片放置区,所述第一层导电层包括分布于所述芯片放置区四周的引脚及导电图案;进入台阶形成过程,所述台阶形成过程包括:在所述芯片放置区和所述引脚表面上形成覆盖层;在所述覆盖层之外的所述第一层介质层表面上形成覆盖所述第一层导电层的第二层介质层;在所述第二层介质层上形成第二层导电层,所述第二层导电层包括分布于所述芯片放置区的第二层引脚及第二层导电图案;循环执行所述台阶形成过程,在循环执行所述台阶形成过程时,将上一次台阶形成过程中形成的所述覆盖层作为本次台阶执行过程中的所述芯片放置区,以形成第i层介质层和第i层导电层,所述第i层导电层包括分布于所述芯片放置区的第i层引脚及第i层导电图案;结束循环执行所述台阶形成过程,去除所述覆盖层,以形成多阶台阶槽。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深南电路有限公司,未经深南电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110252577.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top