[发明专利]一种封装基板制造方法及封装基板有效
| 申请号: | 201110252577.8 | 申请日: | 2011-08-30 |
| 公开(公告)号: | CN102299081A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
| 发明(设计)人: | 谷新;丁鲲鹏;彭勤卫;孔令文 | 申请(专利权)人: | 深南电路有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/498;H05K3/30;H05K3/46;H05K1/02 |
| 代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 彭愿洁;李文红 |
| 地址: | 518000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明公开一种封装基板制造方法及封装基板。一种封装基板制造方法,包括:在芯片放置区和引脚表面上形成覆盖层;在覆盖层之外的第一层介质层上形成覆盖第一层导电层的第二层介质层;在第二层介质层上形成第二层导电层,第二层导电层上包括第二层引脚及第二层导电图案;循环执行上述过程;去除覆盖层,以形成多阶台阶槽。应用上述技术方案,本体层表面上形成多层导电层和覆盖层,将覆盖层去除后,本体层表面上的多层导电层形成多阶台阶,每个台阶上具有引脚。相对于控深铣槽技术来说,多层导电层和覆盖层形成方式,以及覆盖层去除方式,降低加工难度,提高台阶的加工精度。同时,本体层上形成多层引脚,进一步提高引脚密度,实现高密度封装。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 封装 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种封装基板制造方法,其特征在于,包括:提供本体层,所述本体层表面上形成有第一层介质层,所述第一层介质层上具有第一层导电层和芯片放置区,所述第一层导电层包括分布于所述芯片放置区四周的引脚及导电图案;进入台阶形成过程,所述台阶形成过程包括:在所述芯片放置区和所述引脚表面上形成覆盖层;在所述覆盖层之外的所述第一层介质层表面上形成覆盖所述第一层导电层的第二层介质层;在所述第二层介质层上形成第二层导电层,所述第二层导电层包括分布于所述芯片放置区的第二层引脚及第二层导电图案;循环执行所述台阶形成过程,在循环执行所述台阶形成过程时,将上一次台阶形成过程中形成的所述覆盖层作为本次台阶执行过程中的所述芯片放置区,以形成第i层介质层和第i层导电层,所述第i层导电层包括分布于所述芯片放置区的第i层引脚及第i层导电图案;结束循环执行所述台阶形成过程,去除所述覆盖层,以形成多阶台阶槽。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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