[发明专利]化学气相沉积法涂层系统及工艺有效
申请号: | 201110246169.1 | 申请日: | 2011-08-25 |
公开(公告)号: | CN102953045A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 朴万成;黄宇哲;李成哲;金哲男;金上万;李权星;王宏刚 | 申请(专利权)人: | 沈阳金研机床工具有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人: | 金春华 |
地址: | 110045 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及化学气相沉积法涂层系统及工艺。采用的技术方案是:涂层工艺如下:将基体置于托盘内,然后将托盘码于支撑筒内的沉积区;控制系统控制不同的反应气体分别经气体入口引入气体混合室;混合后的反应气体经进气管进入反应炉内,经预热区预热,挡板和隔板的分散,进入沉积区;控制系统控制加热炉升温,控制沉积区反应温度为900~2000℃,于常压下对基体涂层;产生的尾气经排气帽、尾气入口Ⅰ,预热板和尾气出口Ⅰ进入点火装置,中和液经喷淋装置喷淋,吸收中和尾气,净化后的尾气经尾气出口Ⅱ排出,吸收液经吸收液出口收集,集中处理。采用本发明,基体涂层具有较高的均匀度和附着力,提高了产品的耐磨损性和耐缺损性,保护了环境。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 涂层 系统 工艺 | ||
【主权项】:
化学气相沉积法涂层系统,其特征在于:由控制系统(1)、气体混合室(2)、加热炉(4)、反应炉(5)和尾气吸收塔(16)组成;气体混合室(2)上设有若干气体入口(3);反应炉(5)置于加热炉(4)内;反应炉(5)内设有支撑筒(7),支撑筒(7)的上端连接排气帽(6),支撑筒(7)内从上向下依次分为沉积区、气体分配区和预热区;沉积区内:设有若干托盘(8),托盘(8)上设有若干通气孔Ⅰ;气体分配区内:设有挡板(10),挡板(10)上端安装至少三层隔板(9),隔板(9)上设有若干通气孔Ⅱ;预热区内:安装若干层预热板(13),进气管(11)的出气端与气体分配区相通,支撑筒(7)在预热区部位的下端设有尾气入口Ⅰ(12),预热区的下端设有尾气出口Ⅰ(14);气体混合室(2)的出气口经管路与进气管(11)的进气端连接;尾气吸收塔(16)上端设有尾气出口Ⅱ(15),尾气出口Ⅱ(15)通过管路与引风机(22)连接,尾气吸收塔(16)下端分别设有尾气入口Ⅱ(19)和吸收液出口(21),点火装置(20)安装在尾气入口Ⅱ(19)的下端,在尾气吸收塔(16)内尾气入口Ⅱ(19)的上端安装伞形挡板(18),尾气吸收塔(16)内上下两端安装喷淋装置(17);尾气出口Ⅰ(14)经管路与点火装置(20)连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的