[发明专利]共轭二烯系聚合物及其制备方法,以及聚合物组合物无效

专利信息
申请号: 201110229590.1 申请日: 2011-08-11
公开(公告)号: CN102382258A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 伊藤真;稻垣胜成;大岛真弓 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C08F236/10 分类号: C08F236/10;C08F236/06;C08F230/08;C08F8/30;C08F8/34;C08L15/00;C08K3/36;C08K3/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李新红
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本申请公开了共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物和制备方法,从所述共轭二烯系聚合物可以获得在燃料成本节约性和断裂拉伸强度方面出色的聚合物组合物。共轭二烯系聚合物具有基于共轭二烯的单体单元、基于由下式(1)表示的化合物的单体单元和基于由下式(2)表示的化合物的单体单元,其中所述聚合物的至少一端用下列化合物(G)修饰。其中V1表示具有可聚合碳-碳双键的烃基,并且S1表示取代的甲硅烷基,V2表示具有可聚合碳-碳双键的烃基,并且A2表示取代的氨基或含氮杂环基。化合物(G)为选自由以下各项组成的化合物组的化合物的至少一种:含有任选地具有取代基的氨基和羰基的化合物,以及含有任选地具有取代基的氨基和硫代羰基的化合物。V1—S1  (1);V2—A2  (2)。
搜索关键词: 共轭 二烯系 聚合物 及其 制备 方法 以及 组合
【主权项】:
一种共轭二烯系聚合物,所述共轭二烯系聚合物具有基于共轭二烯的单体单元、基于由下式(1)表示的化合物的单体单元和基于由下式(2)表示的化合物的单体单元,其中所述聚合物的至少一端用下列化合物(G)修饰,V1—S1        (1)其中V1表示具有可聚合碳‑碳双键的烃基,并且S1表示取代的甲硅烷基,V2—A2        (2)其中V2表示具有可聚合碳‑碳双键的烃基,并且A2表示取代的氨基或含氮杂环基,化合物(G):选自由以下各项组成的化合物组中的至少一种化合物:含有任选地具有取代基的氨基和羰基的化合物,以及含有任选地具有取代基的氨基和硫代羰基的化合物。
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