[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂有效

专利信息
申请号: 201110206830.6 申请日: 2008-11-13
公开(公告)号: CN102344437A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: C07D327/04 分类号: C07D327/04;C07D333/46;C07D335/02;C07D333/76;C07C381/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中,涉及通式(I)表示的化合物;以及通式(b1-1)表示的化合物(式中,Q1是2价连接基团或单键;Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基;X表示可具有取代基的碳原子数为3~30的环式基,该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)
搜索关键词: 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 新型 化合物 以及 产酸剂
【主权项】:
1.一种方法,其是制造下述通式(b1-1)表示的化合物的方法,包括使下述通式(I)表示的化合物(I)与下述通式(II)表示的化合物(Ii)反应的步骤,A+Z-…(II)式中,Q1是2价连接基团或单键;Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基;X表示可具有取代基的碳原子数为3~30的环式基,该环结构中具有-SO2-键;A+是有机阳离子;M+是碱金属离子;Z-是低亲核性的卤离子、能成为酸性低于化合物(I)的酸的离子、BF4-、AsF6-、SbF6-、PF6-或ClO4-
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