[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂

权利要求书

1.一种方法，其是制造下述通式(b1-1)表示的化合物的方法，

包括使下述通式(I)表示的化合物(I)与下述通式(II)表示的化合物(Ii)反应的步骤，

A⁺Z^-…(II)

式中，Q¹是2价连接基团或单键；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO₂-键；A⁺是有机阳离子；M⁺是碱金属离子；Z^-是低亲核性的卤离子、能成为酸性低于化合物(I)的酸的离子、BF₄^-、AsF₆^-、SbF₆^-、PF₆^-或ClO₄^-。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述Z^-中的低亲核性的卤离子为溴离子或氯离子。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述Z^-中的能成为酸性低于化合物(I)的酸的离子为对甲苯磺酸离子、甲磺酸离子、苯磺酸离子或三氟甲磺酸离子。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，通过使所述化合物(I)和所述化合物(II)溶解于选自水、二氯甲烷、乙腈、甲醇、氯仿或二氯甲烷的溶剂中并搅拌来使它们反应。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，使所述化合物(I)和所述化合物(II)反应的反应温度为0℃～150℃。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，使所述化合物(I)和所述化合物(II)反应的反应时间为0.5～10小时。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述化合物(II)的用量相对于1摩尔化合物(I)为0.5～2摩尔。