[发明专利]裸芯片的晶圆参数的测试方法有效
申请号: | 201110061736.6 | 申请日: | 2011-03-15 |
公开(公告)号: | CN102157415A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 王健 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/26 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶圆中裸芯片的中测方法,采用六针探针卡压接在相邻近的两个裸芯片的正面进行测试;其测试步骤如下:T1,测试出裸芯片中的栅源控制电流IGSS;T2,将第二裸芯片的第二栅极电压UG2加入与第一裸芯片的栅极供电电源UG1相同的电压,通过R1=UG1/IGSS,计算两个裸芯片串联后的第一电阻R1;T3,将R1除以2,得到两个裸芯片的漏源开启电阻参数RDSON;T4,多次改变第二裸芯片的第二栅极电压的电压,通过R2=UG2/IGSS,计算出两个裸芯片串联后的第二电阻R2;T5,通过RDSON=R2-1/2R1,计算出第二裸芯片的RDSON参数。本发明晶圆中裸芯片的中测方法,仅需要对晶圆的正面进行单面测试,便可测试出晶圆中裸芯片测试项目,从而判断裸芯片的为合格品或者不合格品。 | ||
搜索关键词: | 芯片 参数 测试 方法 | ||
【主权项】:
一种裸芯片的晶圆参数的测试方法,其特征在于:采用八根探针的探针卡(4)压接在相邻近的两个裸芯片的正面进行测试;其中二根探针的一端压接在第二裸芯片(2)的三极管的源极测试点,另外一端通过探针卡(4)与测试机台的接口(5)电连接;其中二根探针的一端压接在第二裸芯片(2)的三极管的栅极测试点,其栅极测试点的供电电压为第二栅极控制电压UG2,另外一端通过探针卡(4)与测试机台的接口(5)电连接;其中二根探针的一端压接在第一裸芯片(1)的三极管的源极测试点,另一端通过探针卡(4)与测试机台的接口(5)电连接;其中二根探针通过探针卡(4)上安装的电池E串接后,压接在第一裸芯片(1)的三极管的栅极测试点,其栅极测试点的供电电压为第一栅极控制电压UG1;其测试步骤如下:T1,测试出晶圆中第一裸芯片(1)和第二裸芯片(2)的三极管的饱和漏极电流IDSS、以及除三极管的漏源开启电阻RDSON之外的参数;T2,在第一裸芯片(1)和第二裸芯片(2)的三极管的栅极端加入相同的栅极控制电压、漏极端加入步骤T1中的饱和漏极电流IDSS,测试出第二裸芯片(2)的三极管的源漏电压UDS,通过公式R1=UDS/IDSS,计算出相同栅极控制电压下第一裸芯片(1)和第二裸芯片(2)串联后的第一电阻R1;T3,将步骤T2中的第一电阻R1除以2,得到第二裸芯片(2)的三极管的漏源开启电阻参数RDSON;T4,保持第一裸芯片(1)的三极管的栅极端的第一栅极控制电压UG1的电压值,改变第二裸芯片(2)的三极管的栅极端的第二栅极控制电压UG2的电压值,在第二裸芯片(2)的三极管的漏极端加入步骤T1中的饱和漏极电流IDSS,测试出第二裸芯片(2)的三极管的源漏电压UDS2,通过公式R2=UDS2/IDSS,计算出不同栅极控制电压下第一裸芯片(1)和第二裸芯片(2)串联后的第二电阻R2;通过公式RDSON=R2‑1/2R1,计算出第二裸芯片(2)的三极管在第二栅极控制电压UG2下的漏源开启电阻参数RDSON;T5,多次改变步骤T4中第二裸芯片(2)的三极管栅极端的第二栅极控制电压UG2的电压值,计算出不同的第二栅极控制电压UG2下,第二裸芯片(2)的漏源开启电阻参数RDSON。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造