[发明专利]薄膜沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法有效
| 申请号: | 201110035610.1 | 申请日: | 2011-02-01 |
| 公开(公告)号: | CN102169968A | 公开(公告)日: | 2011-08-31 |
| 发明(设计)人: | 金贞莲;成沄澈 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;李娜娜 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 本发明提供一种薄膜沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法。薄膜沉积设备包括:沉积源,排放沉积材料;沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的一侧处,包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,设置为与沉积源喷嘴单元相对,包括在图案化缝隙片的一端处的共用沉积区域和在另一端处的沿第一方向的多个图案化缝隙,多个图案化缝隙中的每个图案化缝隙包括长度不同的多个图案化子缝隙;障碍板组件,沿第一方向设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间,并包括将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的沉积空间划分为多个子沉积空间的多个障碍板。薄膜沉积设备与基底分开预定的距离。薄膜沉积设备和基底能够相对于彼此移动。 | ||
| 搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 有机 发光 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜沉积设备,该薄膜沉积设备用于在基底上形成薄膜,所述薄膜沉积设备包括:沉积源,排放沉积材料;沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的一侧处,并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,设置为与沉积源喷嘴单元相对,并包括在图案化缝隙片的一端处的共用沉积区域和在另一端处的沿第一方向的多个图案化缝隙,其中,所述多个图案化缝隙中的每个图案化缝隙包括长度不同的多个图案化子缝隙;障碍板组件,沿第一方向设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间,并包括将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的沉积空间划分为多个子沉积空间的多个障碍板,其中,所述薄膜沉积设备与基底分开预定的距离,所述薄膜沉积设备和基底能够相对于彼此移动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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