[发明专利]薄膜沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法

说明书

本申请要求于2010年2月1日提交到韩国知识产权局的第10-2010-0009160号韩国专利申请的权益，其公开通过引用包含于此。

技术领域

本发明的一方面涉及一种薄膜沉积设备、一种通过使用该薄膜沉积设备制造有机发光显示装置的方法、一种通过使用该方法制造的有机发光显示装置。更具体地讲，本发明的一方面涉及一种适合于以大规模制造大尺寸显示装置并可以提高制造产率的薄膜沉积设备、一种使用该薄膜沉积设备制造有机发光显示装置的方法、一种通过该方法制造的有机发光显示装置。

背景技术

与其他显示装置相比，有机发光显示装置视角较大、对比度特性较好并且响应速度较快，因此有机发光显示装置作为下一代显示装置而备受瞩目。

有机发光显示装置通常具有堆叠结构，所述堆叠结构包括阳极、阴极及位于阳极和阴极之间的发射层。当分别从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射层中复合并由此发光时，所述装置显示彩色图像。然而，难以以这种结构实现高发光效率，因此，可选地在发射层和每个电极之间另外设置包括电子注入层、电子传输层、空穴传输层或空穴注入层等的中间层。

此外，实践上很难在诸如发射层和中间层的有机薄膜中形成精细的图案，并且红色发光效率、绿色发光效率和蓝色发光效率根据有机薄膜而改变。出于这些原因，通过利用传统的薄膜沉积设备在诸如5G或更大尺寸的母玻璃的大基底上形成有机薄膜图案是不容易的，因此难以制造驱动电压、电流密度、亮度、色纯度、发光效率和寿命特性等令人满意的大的有机发光显示装置。因此，在这方面需要改善。

有机发光显示装置包括中间层，所述中间层包括设置在彼此相对布置的第一电极和第二电极之间的发射层。中间层、第一电极、第二电极可以使用各种方法形成，所述方法之一为沉积方法。当利用沉积方法来制造有机发光显示装置时，为了形成具有期望图案的薄膜，具有与待形成的薄膜的图案相同的图案的精细金属掩模(FMM)被设置为紧密地接触基底，并且在FMM上方沉积薄膜材料。

发明内容

本发明的各方面提供一种可以容易地制造的薄膜沉积设备、一种通过使用该薄膜沉积设备来制造有机发光显示装置的方法、一种通过使用该方法制造的有机发光显示装置，该薄膜沉积设备可以简单地用于大规模地制造大尺寸显示装置，该薄膜沉积设备改善了制造产率和沉积效率。

根据本发明的一方面，提供了一种薄膜沉积设备，该薄膜沉积设备用于在基底上形成薄膜，所述设备包括：沉积源，排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的一侧处，并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，设置为与沉积源喷嘴单元相对，并包括在图案化缝隙片的一端处的共用沉积区域和在另一端处的沿第一方向的多个图案化缝隙，其中，所述多个图案化缝隙中的每个图案化缝隙包括长度不同的多个图案化子缝隙；障碍板组件，沿第一方向设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间，并包括将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的沉积空间划分为多个子沉积空间的多个障碍板，其中，所述薄膜沉积设备与基底分开预定的距离，所述薄膜沉积设备和基底能够相对于彼此移动。

所述多个图案化缝隙中的每个图案化缝隙可以包括：第一图案化子缝隙，具有第一长度；第二图案化子缝隙，具有与第一长度不同的第二长度；第三图案化子缝隙，具有与第一长度和第二长度不同的第三长度。

根据本发明的另一方面，第一图案化子缝隙、第二图案化子缝隙、第三图案化子缝隙可以交替并重复地形成在图案化缝隙片中。

第一图案化子缝隙可以与基底的红子像素区域对应，第二图案化子缝隙可以与基底的绿子像素区域对应，第三图案化子缝隙可以与基底的蓝子像素区域对应。第一长度可以比第二长度长，第二长度可以比第三长度长。

根据本发明的另一方面，可以根据第一图案化子缝隙的长度、第二图案化子缝隙的长度、第三图案化子缝隙的长度来控制在基底的各区域上沉积的沉积材料的量。

从沉积源排放的沉积材料可以沉积在基底上的红子像素区域、绿子像素区域、蓝子像素区域上。

沉积在红子像素区域上的沉积材料可以比沉积在绿子像素区域上的沉积材料厚，沉积在绿子像素区域上的沉积材料可以比沉积在蓝子像素区域上的沉积材料厚。

根据本发明的另一方面，每个障碍板可以沿与第一方向基本垂直的第二方向延伸，以将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的沉积空间划分为所述多个子沉积空间。

根据本发明的另一方面，所述多个障碍板可以按相等的间距布置。

障碍板组件可以包括第一障碍板组件和第二障碍板组件，第一障碍板组件包括多个第一障碍板，第二障碍板组件包括多个第二障碍板。