[发明专利]镀膜玻璃及其制备方法无效
| 申请号： | 201110031036.2 | 申请日： | 2011-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102617050A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;黄嘉 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C25/42 | 分类号： | C03C25/42;C03C25/22;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜玻璃及其制备方法。该镀膜玻璃包括玻璃基材及形成于玻璃基材表面的镀膜层，该镀膜层为Sb、Bi共参杂的SnO2薄膜，其中Sb、Bi与Sn的摩尔比为：Sn∶Sb∶Bi＝11～14∶1.2～2∶0.2～1.5，该镀膜层厚度为300～450nm。该镀膜层为金属氧化物形成的膜层，与玻璃之间形成共价键，与玻璃的结合力较好；该镀膜层的硬度较高，耐磨性得到了较大提高，该镀膜层引入金属Sb、Bi，通过Sb5+、Bi5+代部分Sn4+，产生自由电子，从而获得更高的导电率，该镀膜层具有良好的稳定性，使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜玻璃，其包括玻璃基材及形成于玻璃基材表面的镀膜层，其特征在于：该镀膜层为Sb、Bi共参杂的SnO2薄膜，其中Sb、Bi、Sn的摩尔比为：Sn∶Sb∶Bi＝11～14∶1.2～2∶0.2～1.5，该镀膜层的厚度为300～450nm。
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