[发明专利]镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜玻璃及该镀膜玻璃的制备方法。

背景技术

低辐射镀膜玻璃能够允许太阳中的热辐射部分进入内部空间，而将内部空间发出的大部分热辐射保留在内部空间，减少内部空间的热量向外散失，有助于保持空间的温度。此外，低辐射玻璃还具有较高的可见光透过率，较低的可见光反射率，可以降低反射强光，从而降低光污染。

现有低辐射玻璃包括玻璃基体及辐射膜。所述辐射膜通常由银镀设于玻璃上。然而，银质地较软，耐磨性低，难于与玻璃基体相结合，从而导致该低辐射玻璃使用寿命较短。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种耐磨，使用寿命较长的镀膜玻璃。

另外，还有必要提供一种上述低辐射玻璃的制备方法。

一种镀膜玻璃，其包括玻璃基材及形成于玻璃基材表面的镀膜层，该镀膜层为Sb、Bi共参杂的SnO₂薄膜，其中Sb、Bi与Sn的摩尔比为：Sn∶Sb∶Bi＝11～14∶1.2～2∶0.2～1.5，该镀膜层的厚度为300～450nm。

一种镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

提供真空镀膜机、玻璃基材及靶材，该真空镀膜机包括镀膜室，所述靶材由摩尔百分含量为10～15％的Sb、75％～85％的SnO₂及5～10％的Bi组成或者由10～15％的Sb、75％～85％的Sn及5～10％的Bi组成；

将玻璃基材及靶材安装于真空镀膜机的镀膜室内；

玻璃基材及形成于玻璃基材表面的镀膜层，该镀膜层为Sb、Bi共参杂的SnO₂薄膜，其中Sb、Bi与Sn的摩尔比为：Sn∶Sb∶Bi＝11～14∶1.2～2∶0.2～1.5，该镀膜层厚度为300～450nm。

该镀膜层为金属氧化物形成的膜层，与玻璃之间形成共价键，与玻璃的结合力较好；该镀膜层的硬度较高，耐磨性得到了较大提高，该镀膜层引入金属Sb、Bi，通过Sb⁵⁺、Bi⁵⁺代部分Sn⁴⁺，产生自由电子，从而获得更高的导电率，该镀膜层具有良好的稳定性，使用寿命长。

附图说明

图1为本发明较佳实施例镀膜玻璃的剖视图；

图2是本发明较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。

主要元件符号说明

镀膜玻璃    10

玻璃基材    11

镀膜层      13

真空镀膜机  20

镀膜室      21

靶材        23

具体实施方式

请参阅图1，本发明较佳实施方式的镀膜玻璃10，其包括玻璃基材11及形成于玻璃基材11上的镀膜层13，该镀膜层13为一低辐射膜层，在本发明的较佳实施例中，该镀膜层13为Sb、Bi共参杂的SnO₂薄膜，其中Sb、Bi、Sn的摩尔比为：11～14∶1.2～2∶0.2～1.5，即Sn∶Sb∶Bi＝11～14∶1.2～2∶0.2～1.5。该镀膜层13的厚度为300～450nm，电阻率为2～4×10^-3欧姆·米，可见光透过率为84～90％。

请参阅图2，本发明较佳实施方式的镀膜玻璃10的制备方法包括如下步骤：

提供靶材23、真空镀膜机20及玻璃基材11。

对该玻璃基材11进行清洁前处理。该清洁前处理可包括以下步骤：将玻璃基材11放入无水乙醇中进行超声波清洗，清洗时间可为5～10min。

对经上述清洁前处理后的玻璃基材11的表面进行等离子体清洗，以进一步去除玻璃基材11表面的脏污，以及改善玻璃基材11表面与后续镀层的结合力。

将上述玻璃基材11放入所述真空镀膜机20的镀膜室21内，将该镀膜室21抽真空至5.0～3.0×10^-5Torr，然后向镀膜室21内通入流量为200～400sccm(标准状态毫升/分钟)的工作气体氩气(纯度为99.999％)，并施加-200～-300V的偏压于玻璃基材11，对玻璃基材11表面进行氩气等离子体清洗，清洗时间为10～20min。

采用磁控溅射法在经氩气等离子体清洗后的玻璃基材11的表面沉积一镀膜层13。