[发明专利]镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种镀膜玻璃，其包括玻璃基材及形成于玻璃基材表面的镀膜层，其特征在于：该镀膜层为Sb、Bi共参杂的SnO₂薄膜，其中Sb、Bi、Sn的摩尔比为：Sn∶Sb∶Bi＝11～14∶1.2～2∶0.2～1.5，该镀膜层的厚度为300～450nm。

2.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于：镀膜层采用由Sb、SnO₂及Bi组成的靶材镀膜形成，所述靶材由摩尔百分含量为：10～15％的Sb、75％～85％的SnO₂及5～10％的Bi组成或者采用由Sb、Sn及Bi组成的合金靶材镀膜形成，所述合金靶材由摩尔百分含量为10～15％的Sb、75％～85％的Sn及5～10％的Bi组成。

3.如权利要求2所述的镀膜玻璃，其特征在于：该镀膜层中Sn、Sb与Bi的摩尔的比为Sn∶Sb∶Bi＝13～13.6∶1.4～1.6∶0.76∶0.8、12～13∶1.6～1.8∶1.25～1.35、13～13.5∶1.7～1.9∶0.8～1、13～13.6∶1.56～1.7∶0.4～0.7、12.6～13.4∶1.3～1.5∶0.3～0.6或者11.6～13∶1.3～1.4∶1.2～1.32。

4.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于：该镀膜层的电阻率为2～4×10^-3欧姆·米，可见光透过率84～90％。

5.一种镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

提供真空镀膜机、玻璃基材及靶材，该真空镀膜机包括镀膜室，所述靶材由摩尔百分含量为10～15％的Sb、75％～85％的SnO₂及5～10％的Bi组成或者由10～15％的Sb、75％～85％的Sn及5～10％的Bi组成；

将玻璃基材及靶材安装于真空镀膜机的镀膜室内；

在玻璃基材上镀膜形成镀膜层，该镀膜层为Sb、Bi共参杂的SnO₂薄膜，其中Sb、Bi与Sn的摩尔百分比为：Sn∶Sb∶Bi＝11～14∶1.2～2∶0.2～1.5，该镀膜层的厚度为300～450nm。

6.如权利要求5所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：在形成镀膜层之前，还包括对玻璃基材进行等离子清洗的步骤。

7.如权利要求6所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，该等离子清洗在以下条件下进行：将该镀膜室抽真空至5.0～3.0×10^-5Torr，然后向镀膜室内通入流量为200～400sccm的工作气体氩气，并施加-200～-300V的偏压于玻璃基材，对玻璃基材表面进行氩气等离子体清洗，清洗时间为10～20min。

8.如权利要求5所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，该镀膜层采用磁控溅射法形成。

9.如权利要求8所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，该镀膜层在以下条件下反应形成：该靶材23的功率为5～8kw，反应气体氧气的流量为60～85sccm，工作气体氩气的流量为300～320sccm，玻璃基材的偏压为-100～-120V，镀膜温度为200～250℃，镀膜时间为35～40min。

10.如权利要求5所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述靶材由摩尔百分含量为：10％的Sb、85％的SnO₂、5％的Bi、15％的Sb、75％的SnO₂、10％的Bi、12％的Sb、82％的SnO₂、6％的Bi、12％的Sb、80％的SnO₂、8％的Bi、9％的Sb、84％的SnO₂、8％的Bi或者10％的Sb、80％的SnO₂、10％的Bi组成。