[发明专利]将原子层沉积涂层涂覆到多孔非陶瓷基底上的方法有效
| 申请号: | 201080042180.X | 申请日: | 2010-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN102575346A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
| 发明(设计)人: | 比尔·H·道奇 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/00;H01L21/205;C23C16/54;C23C16/30;C23C16/06 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 张爽;樊卫民 |
| 地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种将保角涂层沉积在多孔非陶瓷基底上的方法,所述方法需要反应性气体流动经过所述基底从而在其后留下保角涂层。所述方法可用于在所述基底的内孔上留下亲水表面,即使当所述基底是天然疏水性的,例如烯属的材料。所述方法可用于卷对卷法方法中,或用于批量方法中。在后一种情况的一些方便的实施例中,批量反应器和适形涂覆的基底或多个基底可一起成为最终产品的组件,所述组件例如分别为过滤器主体和过滤器元件。 | ||
| 搜索关键词: | 原子 沉积 涂层 涂覆到 多孔 陶瓷 基底 方法 | ||
【主权项】:
一种用于在多孔非陶瓷基底上沉积保角涂层的方法,其包括以下步骤:提供具有入口和出口的反应器;将至少一个多孔非陶瓷基底的至少一部分定位为使得所述多孔非陶瓷基底将所述入口与所述出口分离;执行至少一次如下反复,顺序地将第一和第二反应性气体在所述入口引入使得所述第一和第二反应性气体流动穿过所述多孔非陶瓷基底到达所述出口,从而在所述多孔非陶瓷基底的内表面上执行两个或更多个自限制反应的序列,以在所述内表面的至少一部分上形成保角涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080042180.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





