[发明专利]物体检查系统和方法有效
申请号: | 201080034422.0 | 申请日: | 2010-07-02 |
公开(公告)号: | CN102472962A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | V·伊万诺夫;A·邓鲍夫;V·班尼恩;L·斯卡克卡巴拉兹;N·伊欧萨德 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/22;G01N21/64;G01N21/95 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于物体检查的方法和系统包括基于不想要的微粒与将要被检查的物体相比由于其不同的材料带来的不同的响应,使用分光技术检查物体表面上的不想要的微粒。使用来自物体表面的次级光子发射的能量分辨光谱术和/或时间分辨光谱术获得拉曼和光致发光光谱。将要被检查的物体可以例如是在光刻过程中使用的图案形成装置,诸如掩模版,在这种情况下,可以检测例如金属、金属氧化物或有机物微粒的存在。方法和设备非常敏感,因而能够检测EUV掩模版的图案侧上的小的微粒(例如亚100nm,其至亚50nm)。 | ||
搜索关键词: | 物体 检查 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种物体检查方法,包括下列步骤:用辐射束照射物体,用时间分辨光谱术分析来自所述物体的次级光子发射,和如果检测到时间分辨光谱信号与在没有微粒存在时物体发射的信号不同,则确定存在微粒。
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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