[发明专利]用于气相沉积的淋喷头

摘要

本发明的实施方案大体上涉及用于化学气相沉积(CVD)工艺的装置。在一个实施方案中，提供淋喷头组件，包括主体，主体具有延伸穿过主体的上部分和下部分并且平行于主体的中心轴线延伸的中央通道。淋喷头组件包括具有第一多个孔并且被布置在中央通道内的可选择的扩散板；上管板，其具有第二多个孔并且被在扩散板下方布置在中央通道内；下管板，其具有第三多个孔并且被在上管板下方布置在中央通道内；以及多个管，其从上管板延伸至下管板。每个管被耦合于上管板和下管板的分别的孔并且与上管板和下管板的该分别的孔流体连通。

主权项

一种用于气相沉积室的淋喷头组件，包括：主体，其包括上部分和下部分；中央通道，其延伸穿过所述主体的所述上部分和所述下部分，在所述主体的内表面之间，并且平行于延伸穿过所述主体的中心轴线；扩散板，其包括第一多个孔并且被布置在所述中央通道内；上管板，其包括第二多个孔并且在所述扩散板下方布置在所述中央通道内；下管板，其包括第三多个孔并且在所述上管板下方布置在所述中央通道内；以及多个管，其从所述上管板延伸至所述下管板，其中每个管被耦合于来自所述第二多个孔的分别的孔和来自所述第三多个孔的分别的孔，并且与该来自所述第二多个孔的分别的孔和所述来自该第三多个孔的分别的孔流体连通。