[发明专利]处理排出液的方法与设备无效
| 申请号： | 201080016233.0 | 申请日： | 2010-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN102388432A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 弗兰克·F·霍史达瑞恩;石川徹夜;杰伊·J·俊;菲尔·钱德勒;丹尼尔·O·克拉克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/02;H01L31/18;H01L33/02 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种在处理系统中用于处理排出液的方法及设备。在一些实施例中，一种用于处理排出液的系统包括：处理腔室，其具有处理空间；排放导管，其连接至该处理腔室以从该处理空间移除排出液：及反应物种产生器，其连接至该排放导管以将反应物种注入该排放导管来处理该排出液，其中该反应物种产生器产生包含下列至少一者的反应物种：单态氢、氢离子或氢自由基。在一些实施例中，一种用于处理排出液的方法包括以下步骤：从处理系统的处理空间经由与该处理空间流体连接的排放导管使排出液流动；在该排放导管中通过反应物种来处理该排出液，其中该反应物种包含下列至少一者：单态氢、氢离子或氢自由基；及使经处理的排出液流动至减弱系统。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 排出 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用于处理排出液的系统，包含：处理腔室，其具有处理空间；排放导管，其连接至所述处理腔室以从所述处理空间移除排出液；及反应物种产生器，其连接至所述排放导管以将反应物种注入所述排放导管中来处理所述排出液，其中，所述反应物种产生器产生包含下列至少一者的反应物种：单态氢、氢离子、或氢自由基。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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