[发明专利]处理排出液的方法与设备

权利要求书

1.一种用于处理排出液的系统，包含：

处理腔室，其具有处理空间；

排放导管，其连接至所述处理腔室以从所述处理空间移除排出液；及

反应物种产生器，其连接至所述排放导管以将反应物种注入所述排放导管中来处理所述排出液，其中，所述反应物种产生器产生包含下列至少一者的反应物种：单态氢、氢离子、或氢自由基。

2.根据权利要求1所述的系统，还包括：

减弱系统，其连接至所述排放导管的相对端部以接收经处理的排出液；及

真空泵，其设置在所述排放导管中以利于所述排出液通过所述排放导管而流动；

其中，所述反应物种产生器在所述处理腔室与所述真空泵之间、在所述真空泵处、或在所述真空泵与所述减弱系统之间连接至所述排放导管。

3.根据权利要求2所述的系统，还包括：

第二导管，其将所述反应物种产生器连接至所述排放导管，其中，所述第二导管具有第一端部及相对端部，所述第二导管的第一端部连接至所述反应物种产生器，所述第二导管的相对端部设置在所述排放导管中以将所述反应物种提供至所述排放导管。

4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述第二导管的包括所述第二导管的所述相对端部的一部分同心设置在所述排放导管中。

5.根据权利要求2所述的系统，其中所述排放导管还包括：

第一导管，其具有连接所述处理腔室的第一端部；及

第二导管，其用于从所述第一导管的相对端部接收所述排出液，其中，所述第二导管具有第一端部及相对端部，所述第二导管的第一端部用于从所述第一导管接收所述排出液，所述第二导管的相对端部连接至所述减弱系统，并且其中，所述反应物种产生器连接至所述第二导管。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述第一导管的包括所述第一导管的所述相对端的一部分同心设置在所述第二导管的一部分中，其中，所述第二导管的一部分包括所述第二导管的第一端部。

7.根据权利要求2所述的系统，还包括：

第二导管，将所述反应物种产生器连接至所述排放导管，其中，所述第二导管具有第一端部及相对端部，所述第二导管的第一端部连接至所述反应物种产生器，所述第二导管的相对端部在所述排放导管的壁处连接至所述排放导管以将所述反应物种提供至所述排放导管。

8.根据权利要求2所述的系统，其中所述排放导管还包括：

第一导管，其具有第一端部及相对端部，所述第一导管的第一端部连接至所述反应物种产生器，所述第一导管的相对端部连接至所述减弱系统；及

第二导管，其具有第一端部及相对端部，所述第二导管的第一端部连接至所述处理腔室，所述第二导管的相对端部在所述第一导管的壁处连接至所述第一导管。

9.根据权利要求7或8所述的系统，其中，所述第二导管与所述第一导管成角设置，以沿朝向所述减弱系统的方向将所述反应物种提供至所述排放导管。

10.根据权利要求2所述的系统，还包括：

多个埠口，其径向设置在所述排放导管周围，以将所述反应物种注入所述排放导管中。

11.根据权利要求10所述的系统，其中所述排放导管还包括：

第二导管，其径向设置在所述排放导管的一部份周围并连接至所述多个埠口。

12.根据权利要求10所述的系统，还包括：

电极，其具有延伸至所述排放导管中的尖端且经定位以在所述电极与电弧表面间界定间隙，其中，所述间隙适合在对所述电极施加能量时维持电弧。

13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述电弧表面是设置在所述排放导管中的第二电极。

14.一种用于处理排出液的方法，包含以下步骤：

使排出液从处理系统的处理空间通过与所述处理空间流体连接的排放导管流动；

在所述排放导管中用反应物种来处理所述排出液，所述反应物种包含下列至少一者：单态氢、氢离子或氢自由基；及

使经处理的排出液流动至减弱系统。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述反应物种由氢气或水中至少一者形成。