[发明专利]薄膜沉积方法无效
| 申请号： | 201080011627.7 | 申请日： | 2010-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN102348659A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | G.比尼翁;N.纳多;B.特朗;S.金 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C23C14/08;C23C14/58 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 段家荣;林森 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明的主题是通过火焰处理沉积在玻璃基材(1)上的至少一个薄膜进行的热处理方法，所述玻璃基材(1)在包含至少一个燃烧器(2)的至少一个火焰处理设备的路径中通行，所述处理能够提高所述至少一个薄膜的结晶度和/或提高所述至少一个薄膜中的微晶尺寸，所述方法的特征在于最大瞬时弯曲“b”低于150毫米并且遵从以下条件：b≤0.9×d其中弯曲“b”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与最接近经过燃烧器(2)尖端(6)的平面(P2)并且平行于没有加热的基材平面(P1)的基材点之间的距离，“d”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与燃烧器(2)尖端(6)之间的距离，与通行方向(5)垂直的方向上基材的宽度“L”大于或等于1.1m。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 方法 | ||
【主权项】：
通过火焰处理沉积在玻璃基材(1)上的至少一个薄膜进行的热处理方法，所述玻璃基材(1)在包含至少一个燃烧器(2)的至少一个火焰处理设备的路径中通行，所述处理能够提高所述至少一个薄膜的结晶度和/或提高所述至少一个薄膜中的微晶尺寸，所述方法的特征在于调节所述至少一个燃烧器(2)的位置和/或设置至少一个其它装置以使最大瞬时弯曲“b”低于150毫米并且遵从以下条件：b ≤ 0.9 × d其中弯曲“b”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与最接近经过燃烧器(2)尖端(6)的平面(P2)并且平行于没有加热的基材平面(P1)的基材点之间的距离，“d”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与燃烧器(2)尖端(6)之间的距离，与通行方向(5)垂直的方向上基材的宽度“L”大于或等于1.1m。
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