[发明专利]形成图案的方法有效

专利信息
申请号: 201080010243.3 申请日: 2010-02-04
公开(公告)号: CN102341888A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 斯科特·西里斯;古尔特杰·S·桑胡;约翰·斯迈思;张明 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;G03F7/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 宋献涛
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一些实施例包含形成开口图案的方法。所述方法可包含在衬底上形成间隔特征。所述特征可具有顶部,且可具有从所述顶部向下延伸的侧壁。可沿所述特征的所述顶部和侧壁形成第一材料。所述第一材料可通过跨越所述特征旋转浇铸所述第一材料的保形层形成,或者通过相对于所述衬底沿所述特征进行选择性沉积来形成。在所述第一材料形成之后,可在所述特征之间提供填充材料,同时使所述第一材料的若干区域暴露。然后,可相对于所述填充材料和所述特征二者选择性地移除所述第一材料的所述暴露区域以产生所述开口图案。
搜索关键词: 形成 图案 方法
【主权项】:
一种在衬底上形成开口图案的方法,所述方法包括:在衬底上形成间隔特征,所述特征具有顶部且具有从所述顶部向下延伸的侧壁;所述衬底暴露于所述间隔特征之间的间隙内;跨越所述特征的所述顶部和侧壁形成第一材料;形成所述第一材料之后,在所述特征之间提供填充材料,同时使所述第一材料的若干区域暴露;和移除所述第一材料的所述暴露区域;所述第一材料的所述暴露区域的所述移除在所述衬底上产生所述开口图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080010243.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top