[实用新型]一种实现自动化基片传输的MOCVD处理系统

摘要

本实用新型提供了一种实现自动化基片传输的MOCVD处理系统，包括：具有若干个密封门的传输室，其内部设置有第一传输装置，所述第一传输装置设置有至少一个可以沿所述传输室所在的平面自由旋转和伸缩的传送臂；与所述若干个密封门中的至少一个相连接的真空锁，所述真空锁内部设置有至少一个载片盘托架，每个所述载片盘托架上可以放置有一个载片盘；沿所述传输室周边设置的至少一个反应室，并对位于其中的载片盘上的多片基片进行MOCVD处理；以及所述第一传输装置的传送臂被设置成在所述真空锁和所述反应室之间经过所述密封门传送所述载片盘。本实用新型还能够有效地节省洁净室的空间，并且能够实现基片在处理系统中的自动化传输，节约了人力物力成本。

主权项

一种实现自动化基片传输的金属有机物化学气相沉积处理系统，包括：具有若干个密封门并保持真空环境的传输室，其内部设置有第一传输装置，所述第一传输装置设置有至少一个可以沿所述传输室所在的平面自由旋转和伸缩的传送臂；与所述若干个密封门中的至少一个相连接的真空锁，所述真空锁内部设置有至少一个载片盘托架，每个所述载片盘托架上可以放置有一个载片盘，所述载片盘上可以容纳多片基片，所述真空锁用于连接所述传输室和外界大气环境，以在不损失所述传输室内的真空的前提下在外界大气环境和所述传输室之间对所述载片盘进行传输；沿所述传输室周边设置的至少一个反应室，每一个反应室与所述若干个密封门中的一个相连接，所述每一个反应室内放置至少一个所述载片盘，并对其上的多片基片进行金属有机物化学气相沉积处理；以及所述第一传输装置的传送臂被设置成在所述真空锁和所述多个反应室之间经过所述密封门传送所述载片盘。