[发明专利]用于半导体器件的温度控制的直接流体接触微通道热传递装置、方法及其形成工艺无效

专利信息
申请号: 201010575938.8 申请日: 2010-09-26
公开(公告)号: CN102148207A 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: C·R·施罗德;C·W·阿克曼;J·C·希普雷;T·阿奇克林;I·索西尤克;M·L·鲁廷格里欧;J·G·玛维蒂;A·X·古普塔 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L23/34 分类号: H01L23/34;H01L23/46;G01R31/28
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 姬利永
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于测试半导体器件的装置,其包括保持至少一个传热流体单位单元的基面。该至少一个传热流体单位单元包括有供应孔横截面的流体供应结构,还包括有返回孔横截面的流体返回结构。该供应孔横截面大于该返回孔横截面。还包括为不渗透液体的材料的管芯接触面。
搜索关键词: 用于 半导体器件 温度 控制 直接 流体 接触 通道 传递 装置 方法 及其 形成 工艺
【主权项】:
一种对半导体器件进行温度控制的装置,包括:基面,其中该基面包括至少一个传热流体单位单元,该至少一个传热流体单位单元包括:流体供应结构,其包括供应孔横截面;和流体返回结构,其包括返回孔横截面,并且其中该供应孔横截面大于该返回孔横截面;以及管芯接触面,其中该管芯接触面为不渗透液体的材料。
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