[发明专利]带有可旋转底盘的化学液分类回收装置有效
| 申请号： | 201010571322.3 | 申请日： | 2010-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102074491A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 谷德君 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体行业晶片湿法处理领域，具体为一种带有可旋转底盘的化学液分类回收装置，可以有效减少化学液分类回收时“混酸”现象的产生。该装置设有旋转底盘、工艺腔体，工艺腔体内设置旋转底盘和用于放置晶片的承片台，承片台位于旋转底盘上方，工艺腔体壁上开有与化学液回收管路相通的排液口，旋转底盘表面的一端与排液口相对应，通过旋转底盘的旋转来控制排液口的开关。该装置至少含有两个化学液回收管路，可以实现不同化学液的自动切换回收，用于化学液工艺处理后的分类回收再利用，以达到节约成本的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 旋转 底盘 化学 分类 回收 装置 | ||
【主权项】：
一种带有可旋转底盘的化学液分类回收装置，其特征在于：该装置设有旋转底盘、工艺腔体，工艺腔体内设置旋转底盘和用于放置晶片的承片台，承片台位于旋转底盘上方，工艺腔体壁上开有与化学液回收管路相通的排液口，旋转底盘表面的一端与排液口相对应，通过旋转底盘的旋转来控制排液口的开关。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
