[发明专利]二层或多层铁电驻极体及其制备方法无效
| 申请号： | 201010548692.5 | 申请日： | 2010-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN102064275A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | W·詹宁格尔;J·瓦格纳;C·贝内克 | 申请（专利权）人： | 拜尔材料科学股份公司 |
| 主分类号： | H01L41/083 | 分类号： | H01L41/083;H01L41/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 范赤;李连涛 |
| 地址： | 德国莱*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及制备包含限定的空隙(5)的二层或多层铁电驻极体(3)的方法，所述铁电驻极体不包括具有由两个FEP层中间的PTFE制造的穿孔的中间层的三层铁电驻极体，该方法特征在于以下步骤：A)借助于去除方法将一个或多个间隙(4a)引入聚合物膜元件(1)的至少一个表面侧，B)将第一覆盖物(2)施加到包含在步骤A)中形成的间隙(4)的聚合物膜元件(1)的表面侧，和C)将聚合物膜元件(1)和覆盖物(2)结合形成聚合物膜复合材料(3)，间隙(4)被封闭而形成空隙(5)，并且涉及二层或多层铁电驻极体(3)，该铁电驻极体不包括具有由两个FEP层之间的PTFE制造的穿孔的中间层的三层铁电驻极体，特别地涉及由本发明方法制备的铁电驻极体。本发明还涉及包含本发明的铁电驻极体多层复合材料(3)的压电元件。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 铁电驻极体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
制备包含空隙(5)的二层或多层铁电驻极体(3)的方法，所述铁电驻极体不包括具有由两个FEP层中间的PTFE制造的穿孔的中间层的三层铁电驻极体，该方法特征在于以下步骤：A)借助于去除方法将一个或多个间隙(4a)引入聚合物膜元件(1)的至少一个表面侧，B)将第一覆盖物(2)施加到包含在步骤A)中形成的间隙(4)的聚合物膜元件(1)的表面侧，和C)将聚合物膜元件(1)和覆盖物(2)结合形成聚合物膜复合材料(3)，间隙(4)被封闭而形成空隙(5)。
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