[发明专利]堆栈式封装结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010528021.2 申请日: 2010-10-21
公开(公告)号: CN102054787A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 陈仁川;张惠珊;赖宥丞 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/98 分类号: H01L21/98;H01L25/065;H01L23/00;H01L23/28;H01L23/31
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆勍
地址: 中国台湾高雄市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明关于一种堆栈式封装结构及其制造方法,该方法包括以下步骤:形成且固化一第一保护层以覆盖一第一晶圆的第一凸块;切割该第一晶圆,以形成数个第一晶粒;形成一第二保护层以覆盖一第二晶圆的第二凸块;利用一接合头通过该第一保护层吸附该第一晶粒,且将这些第一晶粒接合于该第二晶圆上;移除该接合头,且移除部分该第一保护层;切割该第二晶圆,以形成数个第二晶粒;形成一第三保护层于一基板上;及将该第一晶粒及该第二晶粒接合于该基板上。藉此,该第一保护层可以保护这些第一凸块,而且该第一保护层还具有增加厚度及平坦化的作用,以利后续第一晶粒的吸附。
搜索关键词: 堆栈 封装 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种堆栈式封装结构的制造方法,包括:(a)提供一第一晶圆,该第一晶圆包括一第一晶圆本体、数个第一连通柱及数个第一凸块,该第一晶圆本体包括一第一表面及一第二表面,这些第一连通柱突出于该第一表面,这些第一凸块邻接于该第二表面且电性连接这些第一连通柱;(b)形成且固化一第一保护层于这些第一凸块上,以覆盖这些第一凸块;(c)切割该第一晶圆,以形成数个第一晶粒;(d)提供一第二晶圆,该第二晶圆包括一第二晶圆本体及数个第二凸块,该第二晶圆本体包括一第三表面及一第四表面,这些第二凸块邻接于该第三表面,且该第四表面相对于该第三表面;(e)形成一第二保护层于这些第二凸块上,以覆盖这些第二凸块;(f)利用一接合头通过该第一保护层吸附这些第一晶粒,且将这些第一晶粒接合于该第二晶圆上,其中这些第一连通柱电性连接这些第二凸块;(g)移除该接合头,且移除部分该第一保护层以显露这些第一凸块;(h)切割该第二晶圆,以形成数个第二晶粒;(i)提供一基板,该基板具有一上表面;(j)形成一第三保护层于该基板上表面;及(k)将该第一晶粒及该第二晶粒接合于该基板上表面,其中这些第一凸块电性连接该基板上表面。
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