[发明专利]化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及图案的形成方法

摘要

一种聚合物，包含高比例的含芳环结构单元，且侧链上含芳香磺酸锍盐，该聚合物用于形成化学放大正性光致抗蚀剂组合物，该组合物对于形成具有高抗蚀性的抗蚀图案是有效的。所述聚合物克服了在用于聚合和纯化的溶剂中以及抗蚀剂溶剂中的溶解问题。

主权项

1.一种包括聚合物的化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，该聚合物包含具有通式(1)到(3)或(1)到(4)的重复单元：其中，R¹是氢、氟、甲基或三氟甲基，R²是氢、取代或非取代、直链、支链或环状C₁-C₁₀烷基或取代或非取代、直链、支链或环状C₁-C₁₀烷氧基，R³每个独立地为C₁-C₁₀烷基，A是单键或二价的可被醚键间隔的C₁-C₁₀有机基团，B是苯环或包含最多3个芳环的稠合多环芳基，s每个独立地为0或1，u为0或1，a每个独立地为0到3的整数，b和c每个独立地为1到3的整数，当c为1时，X为酸性不稳定基团，当c为2或3时，X为氢或酸性不稳定基团，至少一个X为酸性不稳定基团，且Q具有通式(5)或(6)：其中R⁶每个独立地为氢、羟基、C₁-C₇烷羰氧基或C₁-C₆烷基、烷氧基、卤代烷基或卤代烷氧基，且d为从0到4的整数，所述式(1)的单元占整个聚合物单元的至多10mol％。