[发明专利]光致抗蚀剂组合物无效
申请号: | 201010284067.4 | 申请日: | 2010-09-13 |
公开(公告)号: | CN102023484A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 增山达郎;畑光宏 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00;C07C271/22 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 程金山 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供一种光致抗蚀剂组合物,其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物:其中R1,R2和R3各自独立表示氢原子或C1-C4烷基,A1表示单键或C1-C2亚烷基,R4和R5各自独立表示氢原子或C1-C2烷基,R6和R7各自独立表示氢原子等。 |
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搜索关键词: | 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.一种光致抗蚀剂组合物,其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物:
其中R1,R2和R3各自独立表示氢原子或C1-C4烷基,A1表示单键或C1-C2亚烷基,R4和R5各自独立表示氢原子或C1-C2烷基,R6和R7各自独立表示氢原子或C3-C20烃基,或R6和R7彼此结合以与R6和R7所结合的氮原子一起形成C2-C12杂环,并且所述烃基和所述杂环可以具有一个或多个取代基,所述取代基选自由下列组成的组:-OH,-SH,-NH2,烷氧基和-COOR8,其中R8表示C1-C4烷基,C3-C12饱和环烃基或C6-C12芳烃基,并且所述烃基和所述杂环中的一个或多个-CH2-可以被-O-,-S-,-CO-,-C(=NH)-或-NH-代替,并且所述烃基中的一个或多个-CH=可以被-N=代替。
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