[发明专利]光致抗蚀剂组合物无效

专利信息
申请号: 201010284062.1 申请日: 2010-09-13
公开(公告)号: CN102023483A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 增山达郎;畑光宏 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/00;C07C271/22;C07D207/16
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 柳春琦
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种光致抗蚀剂组合物,其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物,在式(I)中,R1表示可以具有一个或多个羟基的C2-C12烷基等,R2和R3各自独立表示氢原子等,R4,R5和R6各自独立表示氢原子等,A1表示单键或C1-C2亚烷基,在所述C1-C2亚烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-代替。
搜索关键词: 光致抗蚀剂 组合
【主权项】:
1.一种光致抗蚀剂组合物,其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物:其中R1表示可以具有一个或多个羟基的C2-C12烷基或可以具有一个或多个羟基的C7-C12芳烷基,并且所述烷基和芳烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,R2和R3各自独立表示氢原子或可以具有一个或多个羟基的C1-C12烷基,并且所述烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,并且R1和R2可以彼此结合以与R1和R2所结合的碳原子一起形成C3-C36环,并且所述环可以具有一个或多个羟基并且所述环中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,R4,R5和R6各自独立表示氢原子,C1-C6烷基,C3-C12饱和环烃基,C6-C12芳烃基或C5-C9杂芳基,并且R4和R5可以彼此结合以与R4和R5所结合的-CH-N-一起形成C5-C6杂环,并且所述烷基可以具有一个或多个取代基,所述的取代基选自由下列组成的组:-OH,-SH,-NH2,C3-C12饱和环烃基,C6-C12芳烃基或C5-C9杂芳基,并且所述烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-,-S-,-CO-,-C(=NH)或-NH-代替,并且所述饱和环烃基、所述芳烃基和所述杂芳基可以具有一个或多个取代基,所述的取代基选自由下列组成的组:-OH,-CO-R7,-O-CO-R7和-CO-O-R7,其中R7表示C1-C6烷基,并且A1表示单键或C1-C2亚烷基,所述C1-C2亚烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-代替。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010284062.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top