[发明专利]聚噻吩衍生物及其合成方法无效
| 申请号： | 201010257736.9 | 申请日： | 2010-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN101891879A | 公开（公告）日： | 2010-11-24 |
| 发明（设计）人： | 张国兵;张清;胡超 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
一种化工技术领域的聚噻吩衍生物及其合成方法，通过引入了强吸电子的二酰亚胺基团，大大降低了聚合物的HOMO能级，同时聚合方法简单、聚合条件温和。本发明的可溶性聚噻吩衍生物，是使用于光电组件上，如：有机薄膜晶体管、有机发光二极管或有机太阳能电池，该方法制成产物的结构式为： |
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| 搜索关键词： | 噻吩 衍生物 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚噻吩衍生物，其特征在于，其结构式为：![]()
其中：n为重复单元数目，n大于或等于1，R1和R2的取值如下：a)R1为氢，R2为C8-C18的直链或C8-C22的支链烷烃；或b)R1为C6-C12的直链烷烃，R2为C6-C12的直链烷烃。
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