[发明专利]一种纳米微粒浮栅透射电子显微镜观测样品制备方法无效
| 申请号： | 201010192442.2 | 申请日： | 2010-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN102269772A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 齐瑞娟;庞凌华;杨卫明;陈柳;王玉科 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G01Q30/20 | 分类号： | G01Q30/20;G01N1/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种纳米微粒浮栅透射电子显微镜观测样品制备方法，包括以下步骤：提供一纳米微粒浮栅样品，所述样品包括衬底、位于所述衬底上的非晶态膜层、位于所述非晶态膜层之上的纳米微粒浮栅层；通过机械研磨去除所述衬底的大部分，保留一薄层的衬底；使用离子束对保留的衬底进行进一步的减薄，使所述纳米微粒浮栅样品上部分区域的保留衬底被完全去除；通过透射电子显微镜对所述保留衬底被完全去除的区域进行观测。本发明方法有效实现了制备从顶面完整观测纳米微粒浮栅层的TEM观测样品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 微粒 透射 电子显微镜 观测 样品 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种纳米微粒浮栅透射电子显微镜观测样品制备方法，包括以下步骤：提供一纳米微粒浮栅样品，所述样品包括衬底、位于所述衬底上的非晶态膜层、位于所述非晶态膜层之上的纳米微粒浮栅层；通过机械研磨去除所述衬底的大部分，保留一薄层的衬底；使用离子束对保留的衬底进行进一步的减薄，使所述纳米微粒浮栅样品上部分区域的保留衬底被完全去除。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010192442.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：提高风味的酰胺化合物
- 下一篇：液晶取向剂、液晶取向膜和液晶显示元件
