[发明专利]一种n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器的制作方法无效

专利信息
申请号: 201010173492.6 申请日: 2010-05-10
公开(公告)号: CN101866983A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 孙建;张希清;刘凤娟;黄海琴;王永生 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0296
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器的制作方法,属于光电子信息领域,解决了ZnO光电导探测器响应速度比较慢的问题,它包括以下步骤:步骤一,用化学清洗方法将石英衬底清洗干净;步骤二,在清洗干净的石英衬底上生长Ga掺杂的ZnO薄膜;步骤三,将生长Ga掺杂的ZnO薄膜放入氧气氛下退火;步骤四,在退火后的Ga掺杂的ZnO薄膜上蒸镀两个Al电极;其结构自下而上依次是:石英衬底,Ga掺杂的ZnO薄膜、两个Al电极。Ga掺杂的ZnO薄膜组分质量比为Ga2O3∶ZnO=(0.5%~3%)∶(97%~99.5%)。可用于环境保护、火焰探测、天文学观测、生物医学和医疗卫生等领域。
搜索关键词: 一种 掺杂 zno 薄膜 快速 响应 紫外 探测器 制作方法
【主权项】:
一种n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器的制作方法,其特征在于,包括以下几个步骤:步骤一,用化学清洗方法将石英衬底清洗干净;步骤二,在清洗干净的石英衬底上生长Ga掺杂的ZnO薄膜;步骤三,将生长Ga掺杂的ZnO薄膜放入氧气氛下退火;步骤四,在退火后的Ga掺杂的ZnO薄膜上蒸镀两个Al电极;以上步骤制作成结构自下而上依次是:石英衬底,Ga掺杂的ZnO薄膜、两个Al电极的n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器。
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