[发明专利]一种n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器的制作方法无效
| 申请号: | 201010173492.6 | 申请日: | 2010-05-10 |
| 公开(公告)号: | CN101866983A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
| 发明(设计)人: | 孙建;张希清;刘凤娟;黄海琴;王永生 | 申请(专利权)人: | 北京交通大学 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0296 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 100044 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器的制作方法,属于光电子信息领域,解决了ZnO光电导探测器响应速度比较慢的问题,它包括以下步骤:步骤一,用化学清洗方法将石英衬底清洗干净;步骤二,在清洗干净的石英衬底上生长Ga掺杂的ZnO薄膜;步骤三,将生长Ga掺杂的ZnO薄膜放入氧气氛下退火;步骤四,在退火后的Ga掺杂的ZnO薄膜上蒸镀两个Al电极;其结构自下而上依次是:石英衬底,Ga掺杂的ZnO薄膜、两个Al电极。Ga掺杂的ZnO薄膜组分质量比为Ga2O3∶ZnO=(0.5%~3%)∶(97%~99.5%)。可用于环境保护、火焰探测、天文学观测、生物医学和医疗卫生等领域。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 掺杂 zno 薄膜 快速 响应 紫外 探测器 制作方法 | ||
【主权项】:
一种n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器的制作方法,其特征在于,包括以下几个步骤:步骤一,用化学清洗方法将石英衬底清洗干净;步骤二,在清洗干净的石英衬底上生长Ga掺杂的ZnO薄膜;步骤三,将生长Ga掺杂的ZnO薄膜放入氧气氛下退火;步骤四,在退火后的Ga掺杂的ZnO薄膜上蒸镀两个Al电极;以上步骤制作成结构自下而上依次是:石英衬底,Ga掺杂的ZnO薄膜、两个Al电极的n型掺杂ZnO薄膜的快速响应紫外探测器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京交通大学,未经北京交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010173492.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于柜式标牌的LED照明系统
- 下一篇:支持速率兼容经穿孔码的存储器控制器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





