[发明专利]内嵌晶闸管的PMOS晶体管以及开关电路有效

专利信息
申请号: 201010144072.5 申请日: 2010-03-31
公开(公告)号: CN102208413A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 单毅;唐成琼 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/07 分类号: H01L27/07;H03K17/687
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李丽
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种内嵌晶闸管的PMOS晶体管以及开关电路,所述PMOS晶体管包括:半导体衬底;形成于半导体衬底表面的栅极;形成于栅极两侧半导体衬底内的源极以及扩散区;形成于扩散区内的漏极以及N型注入区;所述扩散区的掺杂类型与源极以及漏极相同,且掺杂浓度低于所述源极以及漏极;所述N型注入区与漏极电连接,且掺杂浓度高于半导体衬底。本发明所述的开关电路具有较佳的静电保护能力。
搜索关键词: 晶闸管 pmos 晶体管 以及 开关电路
【主权项】:
一种内嵌晶闸管的PMOS晶体管,其特征在于,包括:半导体衬底;形成于半导体衬底表面的栅极;形成于栅极两侧半导体衬底内的源极以及扩散区;形成于扩散区内的漏极以及N型注入区;所述扩散区的掺杂类型与源极以及漏极相同,且掺杂浓度低于所述源极以及漏极;所述N型注入区与漏极电连接,且掺杂浓度高于半导体衬底。
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